臥式化學氣相沉積爐主要用于以碳氫氣體（如C3H8、CH4等）為碳源的材料表面或基體的CVD/CVI處理
高溫氣相沉積設備主要用于關鍵器件表面涂層的制備，而溫度是影響氣相沉積涂層質量的關鍵參數(shù)，目前常規(guī)氣相沉積設備的使用溫度最高只有2000℃，本項目開發(fā)的氣相沉積設備使用溫度可達到2500℃
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型號 |
功率 |
溫度 |
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Φ300*600 |
100KW |
2500℃ |
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Φ500*1000 |
200KW |
2500℃ |
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Φ800*2000 |
400KW |
2500℃ |
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Φ1500*2500 |
1000KW |
2500℃ |
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